人造钻石需要多高的温度和压强

化学气相沉积法（CVD）采用完全不同的原理，在真空腔体中利用甲烷等气体发生化学反应。反应温度维持在700至1200摄氏度之间，压力仅需30到100千帕。这种方法的低压环境更适合薄膜状钻石的沉积生长。