还有一种工艺是模拟地幔层环境，在1600摄氏度和4.5Gpa压强下，碳化石墨会直接转化为钻石原石。这种参数设定更接近自然界中钻石形成的深层地质条件，适合制造特定品质的工业级钻石。
人造钻石需要多高的温度和压强
高温高压法（HPHT）是模拟地球内部钻石形成的方式，通常需要1300至1600摄氏度的温度和5至6兆帕的压力。这种技术通过金属熔体传递碳原子，让钻石在种子周围逐渐生长，整个过程对设备稳定性要求极高。
人造钻石的合成需要在极端环境中进行，首先要达到2300℃的高温和15到18万个大气压的压强。在反应中心放置一颗天然钻石作为种子，周围覆盖高温金属液体，上层则是石墨。这种环境下，石墨中的碳原子会有序迁移到种钻表面，逐渐结晶形成新的钻石结构。
化学气相沉积法（CVD）采用完全不同的原理，在真空腔体中利用甲烷等气体发生化学反应。反应温度维持在700至1200摄氏度之间，压力仅需30到100千帕。这种方法的低压环境更适合薄膜状钻石的沉积生长。
需要注意的是，不同厂商会根据设备性能和目标产品调整参数。比如CVD法中温度控制可能精确到±10℃，压力调节范围也可能扩展至200千帕，这些细微差别直接影响最终钻石的纯度和晶体结构。